Metoxipropanoloch etylenglykoleter tillhör binära alkoholeterlösningsmedel, som är färglösa och transparenta vätskor. Toxiciteten för propylenglykoleter för människokroppen är lägre än för etylenglykoleterprodukter, och den tillhör lågtoxiska etrar. Propylenglykolmetyleter har en svag eterlukt, men ingen stark stickande lukt, vilket gör den mer allmänt använd och säker. Eftersom dess molekylära struktur innehåller både etergrupp och hydroxylgrupp, har den utmärkt löslighet, lämplig förångningshastighet och reaktionsaktivitet och har använts i stor utsträckning. Det används huvudsakligen som ett utmärkt lösningsmedel för nitrocellulosa, alkydharts och maleinsyraanhydridmodifierat fenolharts, som frostskyddsmedel för flygbränsle och tillsats för bromsvätska; Det används främst som lösningsmedel, dispergeringsmedel och spädningsmedel, och även som bränslefrostskyddsmedel och extraktionsmedel.
|
Kemisk formel |
C4H10O2 |
|
Exakt mässa |
90 |
|
Molekylvikt |
90 |
|
m/z |
90 (100.0%), 91 (4.3%) |
|
Elementaranalys |
C, 53.31; H, 11.18; O, 35.51 |
|
|
|
Beredningsmetoden förMetoxipropanol(vanligtvis mer exakt kallad propylenglykolmonometyleter) beskrivs enligt följande:
(1) Råmaterialberedning:
Erhåll epiklorhydrin och metanol som reaktanter.
Förbered en katalysator, som är kiselgur inbäddad med järnklorid. Bland dem är vikten av järnklorid 2% av vikten av epiklorhydrin.
(2) Enhetsinställningar:
Välj en behållare som lämpar sig för reaktioner med högt-tryck och hög-temperatur, till exempel en hög-trycksreaktor.
Sätt upp ett temperatur- och tryckkontrollsystem för reaktionskärlet för att säkerställa exakt kontroll av reaktionstemperaturen och -trycket.
(1) Blandning av råvaror:
Blanda epoxipropan och metanol jämnt i ett molförhållande av 1:3.
(2) Lägg till katalysator:
Tillsätt den framställda kiselgurskatalysatorn inbäddad med järn(III)klorid till reaktionsblandningen.
(3) Uppvärmningsreaktion:
Värm reaktionsblandningen till 190 grader.
Håll reaktionstrycket vid 1,5 MPa (eller 1500 kPa).
Reaktionstiden är 50 minuter.
Vakuumdestillation: Efter att reaktionen är avslutad, utsätts reaktionsblandningen för vakuumdestillation för att separera propylenglykolmonometyleter.
Destillation med reducerat tryck hjälper till att sänka destillationstemperaturen och minskar därigenom nedbrytningen av värmekänsliga produkter.
(1) Bestämning av utbyte: Utbytet av propylenglykolmonometyleter bestämdes genom vägning eller andra lämpliga metoder, och utbytet var 98,2%.
(2) Renhetstestning: Använd kromatografi eller andra analytiska tekniker för att testa produktens renhet och få en renhet på 99,1 %.
Tillämpningen avMetoxipropanol(även känd som 1-metoxi-2-propanol, förkortat PGME) i halvledarfotoresist är ett viktigt och specialiserat område bland dess många användningsområden. Fotoresist är ett oumbärligt material i halvledartillverkningsprocessen, som främst används för mikrotillverkning av integrerade kretsar och diskreta halvledarenheter. Den har också ett brett utbud av applikationer i produktionsprocesserna för platta bildskärmar, lysdioder, flip flops, magnethuvuden och precisionssensorer. Propylenglykolmetyleter, som en viktig lösningsmedelskomponent i fotoresist, spelar en avgörande roll i prestanda och tillverkningsprocessen för fotoresist.
Fotoresist, även känd som fotoresist, består av huvudkomponenter och lösningsmedel. Det huvudsakliga lösningsmedlet som för närvarande används för fotoresist är propylenglykolmetyleteracetat (PMA), men propylenglykolmetyleter (PGME) används också som lösningsmedel eller hjälplösningsmedel i vissa fotoresistformuleringar. Huvudkomponenterna i fotoresist inkluderar harts, monomerer, fotoinitiatorer och tillsatser. Bland dem står hartsinnehållet för cirka 50 % till 60 % av huvudkomponenterna, och monomerinnehållet står för cirka 35 % till 45 %. Principen för fotoresist är att använda ljuskällor såsom ultraviolett ljus, excimerlaser, elektronstråle, jonstråle, röntgenstrålning, etc. för att bestråla eller stråla, vilket orsakar en förändring i dess löslighet, och bildar därigenom det önskade mönstret på kiselskivan.
2. Propylenglykolmetyleters roll i fotoresist
(1) Lösningsmedelsverkan:
Propylenglykolmetyleter används huvudsakligen som lösningsmedel i fotoresist. Det kan lösa fasta fotosensibilisatorer och tillsatser för att bilda en flytande blandning, vilket säkerställer god flytbarhet av fotoresist. Denna fluiditet är avgörande för en enhetlig beläggning av fotoresist på waferytan genom spinnbeläggningsteknik.
(2) Justering av viskositet:
Tillsatsen av propylenglykolmetyleter kan justera fotoresistens viskositet, vilket gör den mer lämplig för specifika beläggningsprocesser. Korrekt justering av viskositeten hjälper till att säkerställa jämn fördelning av fotoresist under beläggningsprocessen, vilket undviker generering av bubblor och defekter.
(3) Förbättring av beläggningsprestanda:
Propylenglykolmetyleter har måttlig flyktighet och kan snabbt avdunsta under beläggningsprocessen, vilket lämnar en enhetlig och tät fotoresistfilm. Detta hjälper till att förbättra vidhäftningen och korrosionsbeständigheten hos fotoresist.
(4) Inverkan på litografieffekt:
Vissa fysikaliska och kemiska egenskaper hos propylenglykolmetyleter, såsom kokpunkt, löslighet och ytspänning, kan ha en viss inverkan på fotoresists litografieffekt. Till exempel kan en lämplig kokpunkt säkerställa att fotoresisten inte deformerar mönstret under exponeringen på grund av snabb lösningsmedelsavdunstning.
3. Specifik tillämpning av propylenglykolmetyleter i halvledarfotoresist
(1) High-end fotoresist:
I hög-fotoresist kan propylenglykolmetyleter användas som ett extra lösningsmedel eller tillsats. Dessa fotoresister används vanligtvis för att tillverka halvledarenheter med högre integration och mer komplexa strukturer. Tillsatsen av propylenglykolmetyleter kan förbättra beläggningsprestandan och litografieffekten av fotoresist, och därigenom öka utbytet och prestanda hos anordningar.
(2) ArF fotoresist:
ArF-fotoresist är ett av nyckelmaterialen som används för tillverkning av halvledarenheter med processnoder på 7nm och lägre.
Propylenglykolmetyleter kan användas som lösningsmedel eller tillsats i ArF-fotoresist för att förbättra dess beläggningsprestanda och litografieffekt. ArF fotoresist har extremt höga krav på lösningsmedel, och vissa egenskaper hos propylenglykolmetyleter gör det till ett lämpligt val.
(3) Andra typer av fotoresist:
Utöver ArF-fotoresist kan propylenglykolmetyleter även användas i andra typer av fotoresist, såsom KrF-fotoresist, i-line-fotoresist, etc. Dessa fotoresister har olika användningsområde och processkrav i halvledartillverkningsprocessen. Tillsatsen av propylenglykolmetyleter kan justera prestanda och beläggningseffekt av fotoresist enligt specifika behov.
4. Inverkan av propylenglykolmetyleter på halvledartillverkningsprocessen
(1) Förbättring av produktionseffektiviteten:
Tillsatsen av propylenglykolmetyleter kan förbättra beläggningsprestandan och litografieffekten av fotoresist, och därigenom förbättra produktionseffektiviteten för halvledarenheter. Enhetlig beläggning och tydliga litografimönster hjälper till att minska defekter och omarbetningshastigheter, vilket förkortar produktionscyklerna.
(2) Minska produktionskostnaderna:
Genom att optimera formuleringen och beläggningsprocessen av fotoresist kan produktionskostnaden för halvledaranordningar reduceras. Som en av de viktiga komponenterna i fotoresist kan den rationella användningen av propylenglykolmetyleter minska onödigt spill och förluster, och därigenom sänka produktionskostnaderna.
(3) Förbättra enhetens prestanda:
Förbättringen av fotoresistprestanda med propylenglykolmetyleter hjälper till att förbättra prestandan hos halvledarenheter. Till exempel kan mer enhetlig beläggning och tydligare litografimönster minska parasitära parametrar såsom resistans och kapacitans hos enheten, och förbättra prestanda som hastighet och strömförbrukning.
(4) Främja teknisk uppgradering:
Med den kontinuerliga utvecklingen av halvledarteknik ökar också kraven på fotoresist. Införandet av nya lösningsmedel och tillsatser som propylenglykolmetyleter kan främja uppgraderingen och framstegen inom fotoresistteknologin, vilket ger fler innovations- och utvecklingsmöjligheter till halvledartillverkningsområdet.
Metoxipropanol, som en av de viktiga komponenterna i halvledarfotoresist, har breda tillämpningsmöjligheter och fördelar i halvledartillverkningsprocessen. Genom att optimera formuleringen och beläggningsprocessen av fotoresist kan produktionseffektiviteten och prestandan för halvledarenheter förbättras och produktionskostnaderna kan minskas. Dess miljö- och säkerhetsfrågor måste dock också ägnas tillräcklig uppmärksamhet. I framtiden, med den kontinuerliga utvecklingen av halvledarteknologi och den ökande medvetenheten om miljöskydd, kommer introduktionen av nya lösningsmedel och tillsatser som propylenglykolmetyleter att främja uppgraderingen och framstegen inom fotoresistteknik, vilket ger fler innovations- och utvecklingsmöjligheter till halvledartillverkningsområdet. Samtidigt är det också nödvändigt att stärka forskning och övervakning av dess miljöskydd och säkerhet, för att säkerställa en hållbar utveckling av halvledartillverkningsprocessen och säkerheten för personal och miljö.
Vanliga frågor
Vad används metoxipropanol till?
+
-
Metoxipropanol används främst vid tillverkning av propylenglykolmetyleteracetat (annan känd som PMA) och används även i industriella och kommersiella produkter inklusive färger, lacker, bläck, syntetiska harts- och gummilim, samt bil- och ugnsrengöringsmedel.
Är metoxipropanol giftigt?
+
-
1-metoxi-2-propanol är ett milt giftigt ämne. Toxiciteten är lägre än för metyl-, etyl- och butyletrarna av etylenglykol. De giftiga symtomen från inandning av höga koncentrationer är illamående, kräkningar och allmänna anestetiska effekter. Hos människor kan toxiska effekter märkas vid exponering för en nivå av 3000–4000 ppm.
Vad används Metoxiisopropanol till?
+
-
Den primära användningen av metoxiisopropanol äri färger. Andra namn för metoxiisopropanol inkluderar 1-metoxi-2-hydroxipropan, 1-metoxi-2-propanol och propylenglykolmonometyleter (PGME).
Vad används metoxipropan till?
+
-
Marknadsförd under handelsnamnen Metopryl och Neothyl användes metoxipropansom ett alternativ till dietyleterpå grund av dess större styrka. Dess användning som bedövningsmedel har sedan dess ersatts av moderna halogenerade etrar som är mycket mindre brandfarliga.
Vad används metoxifenol till?
+
-
Metoxifenoler användsvid tillverkning av antioxidanter och läkemedel. 2- Metoxifenol används som slemlösande medel och i syntetiska smaker.
Är propanol skadligt för människor?
+
-
Dock,endast ett fall av dödlig förgiftning med 1-propanol har rapporterats. De mest sannolika akuta effekterna av 1-propanol hos människa är alkoholförgiftning och narkos. Resultaten från djurstudier visar att 1-propanol är 2 - 4 gånger så berusande som etanol. 1-Propanol kan vara irriterande för återfuktad hud.
Vilka är biverkningarna av metoxiisopropanol?
+
-
Kan orsaka dåsighet eller yrsel. H226 Brandfarlig vätska och ånga. H336 Kan orsaka dåsighet eller yrsel. P210 Förvaras åtskilt från värme, heta ytor, gnistor, öppen låga och andra antändningskällor.
Populära Taggar: metoxipropanol cas 107-98-2, leverantörer, tillverkare, fabrik, grossist, köp, pris, bulk, till salu